溅射速率栅网法检测
发布时间:2025-05-29
检测项目溅射速率分布、靶材刻蚀形貌、膜厚均匀性、沉积角度偏差、基片温升控制、等离子体密度分布、工作气压稳定性、氩气流量精度、射频功率波动率、直流偏压线性度、残余气体分析、靶材利用率系数、膜层附着力强度、表面粗糙度变化率、晶粒尺寸分布、元素扩散深度、界面结合状态、应力应变梯度、光学透过率偏差率、电导率各向异性、磁滞回线特征值、耐腐蚀性能衰减率、热稳定性临界温度、纳米压痕硬度值、接触角润湿性变化量、X射线衍射峰位移量、二次电子发射系数、俄歇电子能谱峰位偏移量、椭圆偏振光谱拟合误差值、台阶仪测量重复性。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。
检测项目
溅射速率分布、靶材刻蚀形貌、膜厚均匀性、沉积角度偏差、基片温升控制、等离子体密度分布、工作气压稳定性、氩气流量精度、射频功率波动率、直流偏压线性度、残余气体分析、靶材利用率系数、膜层附着力强度、表面粗糙度变化率、晶粒尺寸分布、元素扩散深度、界面结合状态、应力应变梯度、光学透过率偏差率、电导率各向异性、磁滞回线特征值、耐腐蚀性能衰减率、热稳定性临界温度、纳米压痕硬度值、接触角润湿性变化量、X射线衍射峰位移量、二次电子发射系数、俄歇电子能谱峰位偏移量、椭圆偏振光谱拟合误差值、台阶仪测量重复性。
检测范围
半导体晶圆镀膜层、磁记录介质薄膜、透明导电氧化物涂层(ITO)、太阳能电池电极层、光学防反射膜系、超硬氮化钛涂层、高温超导薄膜层、微机电系统(MEMS)结构层、医疗植入物生物涂层、平板显示电极层、汽车零部件耐磨镀层、航空航天热障涂层、纳米多层复合膜系、量子点发光薄膜层、柔性电子功能层、光伏组件减反射膜层、集成电路铜互连阻挡层(Ta/TaN)、锂离子电池集流体涂层(Al/Cu)、传感器敏感功能膜层(Pt/Pd)、真空镀膜装饰涂层(Cr/TiN)、X射线窗口铍薄膜层(Be)、核聚变装置第一壁钨涂层(W)、燃料电池质子交换膜(PEM)催化层(Pt/C)、声表面波器件压电薄膜(AlN)、红外探测器吸收层(VOx)、微流控芯片疏水涂层(FEP)、磁头读写间隙层(CoFe)、OLED阳极修饰层(MoO3)、相变存储器硫系化合物薄膜(GST)、原子钟铷蒸气室抗渗透涂层。
检测方法
石英晶体微量天平(QCM)实时监测法:通过频率变化反演单位面积沉积质量,分辨率达0.1nm。
激光干涉测厚法:利用632.8nm氦氖激光干涉条纹位移计算动态膜厚变化。
四探针电阻率测试法:测量方阻值推算导电薄膜的厚度与均匀性。
椭圆偏振光谱分析:通过偏振光相位差解析纳米级膜厚与光学常数。
X射线荧光光谱(XRF):依据特征X射线强度定量元素面分布均匀性。
原子力显微镜(AFM)三维重构:0.1nm级分辨率表征表面粗糙度与晶粒结构。
扫描电镜(SEM)截面观测:通过离子束切割获取真实膜层界面形貌。
纳米压痕力学测试:测定薄膜硬度与弹性模量的空间分布特性。
辉光放电质谱(GD-MS):深度剖析元素浓度梯度与杂质分布。
激光诱导击穿光谱(LIBS):快速扫描多元素成分的二维分布图。
检测标准
GB/T31369-2015太阳电池用透明导电氧化物玻璃规范
ISO14606:2015表面化学分析-溅射深度剖析-使用单层和多层薄膜系统的优化
ASTMF1048-2018用四点探针阵列测量硅片薄层电阻的标准试验方法
IEC61788-15:2011超导性-第15部分:电子装置用超导薄膜的临界电流测量
JISH8687-2:2019铝及铝合金阳极氧化膜试验方法-第2部分:膜厚测定
DINEN1071-3:2005高级工业陶瓷涂层试验方法-第3部分:附着强度测定
GB/T17722-2020金属覆盖层厚度测量扫描电镜法
ISO21227-3:2007涂料和清漆-光学成像法评估涂覆表面的缺陷-第3部分:划格试验中的剥离评估
ASTMB748-90(2021)通过电阻测量测定金属薄膜厚度的标准试验方法
SJ/T11873-2023半导体器件用高纯金属溅射靶材技术要求
检测仪器
磁控溅射镀膜系统:配备多轴基片台与过程诊断接口的工业级设备,典型配置包括6英寸靶材法兰和基片加热模块。
原位等离子体探针:Langmuir探针用于实时监测等离子体密度(10^9~10^12cm^-3)与电子温度(1-10eV)。
高精度质谱仪:残余气体分析仪(RGA)可检测10^-9Torr量级的本底真空成分。
多轴激光干涉仪:采用波长635nm的半导体激光源,位移分辨率达0.1nm。
椭偏仪成像系统:配备532nm/633nm双波长光源的宽场测量装置。
纳米力学测试平台:最大载荷500mN的Berkovich压头系统。
三维表面轮廓仪:垂直分辨率0.01nm的白光干涉测量模块。
聚焦离子束(FIB)系统:30kVGa+离子束配合EDS能谱的微区分析装置。
低温探针台:支持77K~500K温区的四探针电阻测量系统。
同步辐射X射线衍射站:具备掠入射(GIXRD)模式的晶体结构分析设备。
检测服务范围
1、指标检测:按国标、行标及其他规范方法检测
2、仪器共享:按仪器规范或用户提供的规范检测
3、主成分分析:对含量高的组分或你所规定的某种组分进行5~7天检测。
4,样品前处理:对产品进行预处理后,进行样品前处理,包括样品的采集与保存,样品的提取与分离,样品的鉴定以及样品的初步分析,通过逆向剖析确定原料化学名称及含量等共10个步骤;
5、深度分析:根据成分分析对采购的原料标准品做准确的定性定量检测,然后给出参考工艺及原料的推荐。最后对产品的质量控制及生产过程中出现问题及时解决。

合作客户展示

部分资质展示
