原子力显微镜形貌观测检测

检测项目

表面粗糙度测量：量化表面的不平整程度，具体检测参数包括算术平均粗糙度Ra、均方根粗糙度Rq。

高度分布分析：测量表面特征的高度值，具体检测参数包括最大峰高Rp、最大谷深Rv。

横向尺寸评估：分析表面特征的宽度和间距，具体检测参数包括特征宽度W、周期长度P。

三维形貌重建：生成表面的三维图像，具体检测参数包括Z轴分辨率、扫描范围XY。

表面斜率计算：确定表面倾斜角度，具体检测参数包括平均斜率、最大斜率。

表面积比率：计算实际表面面积与投影面积之比，具体检测参数包括表面积比Sdr。

颗粒尺寸分布：分析表面颗粒的尺寸，具体检测参数包括平均粒径D50、分布指数。

台阶高度测量：用于半导体工艺检测，具体检测参数包括台阶高度H、边缘角度。

表面缺陷识别：检测划痕、凹坑等缺陷，具体检测参数包括缺陷密度、缺陷尺寸。

薄膜厚度测定：测量薄膜样品的厚度，具体检测参数包括膜厚值、均匀性偏差。

弹性模量映射：通过力曲线测量局部硬度，具体检测参数包括杨氏模量E。

检测范围

半导体晶圆：用于表面形貌和缺陷检测。

金属合金：分析表面微观结构和粗糙度。

聚合物涂层：测量涂层表面的平整度和质量。

生物细胞：观测细胞表面形貌和结构。

纳米碳材料：如石墨烯的形貌分析。

光学玻璃：检测透镜表面的粗糙度。

陶瓷制品：评估表面微观结构。

复合材料：分析纤维与基体的界面形貌。

MEMS设备：测量微机电系统的表面特征。

矿物样本：研究地质样品的表面形貌。

医疗器械表面：用于生物相容性相关的形貌检测。

检测标准

ASTM E2848 JianCe Guide for Atomic Force Microscopy

ISO 13095 Surface chemical analysis — Atomic force microscopy — Method for determination of tip shape

GB/T 19619-2004 纳米材料术语

ISO 25178-6 Geometrical product specifications — Surface texture: Areal — Part 6: Classification of methods for measuring surface texture

GB/T 1031-2009 产品几何技术规范 表面结构 轮廓法 表面粗糙度参数及其数值

ASTM E2530 Practice for Atomic Force Microscopy of Multiwalled Carbon Nanotubes

检测仪器

原子力显微镜：用于高分辨率表面形貌成像，具体功能包括接触模式、非接触模式形貌扫描。

探针校准标准片：用于AFM探针的形状和尺寸校准，具体功能包括提供参考形貌进行仪器验证。

样品台定位系统：精确控制样品位置，具体功能包括XYZ方向移动以实现区域扫描。

环境隔离罩：减少振动和噪声干扰，具体功能包括提供稳定测量环境。

数据分析工作站：处理AFM原始数据，具体功能包括生成形貌图像和参数计算。

探针更换工具：安全更换AFM探针，具体功能包括避免探针损坏和污染。

检测服务范围

1、指标检测：按国标、行标及其他规范方法检测

2、仪器共享：按仪器规范或用户提供的规范检测

3、主成分分析：对含量高的组分或你所规定的某种组分进行5~7天检测。

4，样品前处理：对产品进行预处理后，进行样品前处理，包括样品的采集与保存，样品的提取与分离，样品的鉴定以及样品的初步分析，通过逆向剖析确定原料化学名称及含量等共10个步骤;

5、深度分析：根据成分分析对采购的原料标准品做准确的定性定量检测，然后给出参考工艺及原料的推荐。最后对产品的质量控制及生产过程中出现问题及时解决。

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