白光干涉检测
发布时间:2025-09-15
白光干涉检测是一种基于白光干涉原理的高精度光学测量技术,用于非接触式测量表面形貌、粗糙度和微观结构特征。该方法提供纳米级分辨率,适用于各种材料表面的定量分析,确保检测结果的准确性和重复性,重点关注干涉条纹分析、相位计算和三维重建等核心环节。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试望见谅。
检测项目
表面粗糙度测量:通过分析白光干涉产生的条纹图案,计算表面粗糙度参数如Ra和Rz,评估材料加工后的表面质量状态,确保符合微米级精度要求。
台阶高度测量:利用干涉相位差原理精确测量微米或纳米级的垂直高度差,用于半导体器件和MEMS结构的台阶尺寸验证,保证组件装配精度。
三维形貌分析:基于干涉数据重建表面三维拓扑结构,提供高度、斜率和曲率分布信息,用于表面缺陷和形状误差的评估。
薄膜厚度测量:通过干涉条纹间距计算透明或半透明薄膜的厚度,适用于光学涂层和半导体薄膜的质量控制,确保均匀性达标。
平面度检测:评估表面相对于理想平面的偏差程度,利用干涉图像分析平坦度误差,用于高精度光学元件和机械部件的验收。
波纹度分析:测量表面中频波纹成分的振幅和周期,分析加工过程中产生的纹理特征,评估振动或工具痕迹的影响。
轮廓测量:提取表面特定路径的轮廓线数据,用于边缘清晰度、角度和形状一致性的检测,支持微细结构验证。
颗粒分布分析:识别和量化表面污染物或颗粒的尺寸、密度和分布情况,通过干涉对比度变化评估清洁度等级。
磨损评估:比较使用前后表面形貌变化,量化磨损深度和面积,用于材料耐久性和寿命预测分析。
涂层均匀性检测:测量涂层厚度分布和表面一致性,通过干涉相位分析评估涂覆工艺质量,防止局部过厚或过薄。
检测范围
硅片表面:用于半导体制造中硅晶圆的表面平整度、粗糙度和缺陷检测,确保集成电路生产的可靠性和性能。
光学镜片:测量透镜和镜面的表面形貌、划痕和气泡,评估光学性能如透光率和成像质量,适用于精密光学系统。
金属加工件:评估车削、铣削或抛光后金属表面的微观纹理和粗糙度,用于机械零件质量控制和摩擦学分析。
陶瓷材料:检测陶瓷基板的表面结构和孔隙率,用于电子元件如绝缘体和传感器的性能验证,确保高温稳定性。
聚合物薄膜:测量塑料薄膜的厚度均匀性和表面缺陷,适用于包装材料和柔性电子产品的耐久性测试。
微电子器件:用于MEMS和集成电路的表面形貌分析,包括引线键合点和焊盘高度测量,支持微型化设备开发。
生物医学植入物:检测植入物表面粗糙度和纹理,影响细胞附着和生物相容性,用于骨科和牙科器械的合规性评估。
汽车零部件:如发动机缸体和传动部件表面,评估耐磨性、密封性和腐蚀resistance,确保车辆安全运行。
航空航天组件:高精度涡轮叶片和结构件表面检测,分析疲劳裂纹和涂层完整性,支持航空可靠性标准。
精密模具:测量模具腔体表面形貌和光洁度,防止产品成型缺陷,用于注塑和压铸工艺质量控制。
检测标准
ASTME2847-2013《表面形貌测量的标准指南》:提供了白光干涉等光学方法进行表面纹理测量的通用原则和程序,包括参数定义和设备校准要求。
ISO25178-2:2012《几何产品规范(GPS)—表面纹理:区域—第2部分:术语、定义和表面纹理参数》:定义了表面形貌测量的国际标准术语和参数体系,确保白光干涉检测结果的可比性和一致性。
GB/T10610-2009《产品几何技术规范(GPS)—表面结构:轮廓法—评定表面结构的规则和方法》:规定了基于轮廓法的表面粗糙度测量方法,适用于白光干涉数据的处理和报告格式。
ISO16610-21:2011《几何产品规范(GPS)—滤波:第21部分:线性轮廓滤波器》:涉及表面数据滤波处理的标准,用于白光干涉测量中的噪声去除和特征提取。
ASTMF1814-2011《用于表面形貌测量的光学干涉仪的标准测试方法》:详细描述了干涉仪设备的性能验证和测试流程,确保白光干涉检测的准确性和重复性。
GB/T18778.2-2003《产品几何量技术规范(GPS)—表面结构:轮廓法—第2部分:术语、定义和表面结构参数》:提供了表面轮廓测量的国家标准,支持白光干涉在工业应用中的合规性评估。
检测仪器
白光干涉仪:基于宽带白光光源和干涉原理的测量设备,用于非接触式表面形貌和粗糙度分析,提供纳米级垂直分辨率的三维图像重建功能。
相位shifting干涉仪:通过精确控制参考镜位移实现相位移动,增强干涉条纹对比度和测量精度,用于高分辨率表面缺陷和台阶高度检测。
共焦显微镜系统:结合白光干涉和共焦成像技术,实现高倍率表面扫描和厚度测量,适用于透明材料和微小结构分析。
光学轮廓仪:利用干涉条纹分析快速获取表面轮廓数据,支持粗糙度参数计算和实时监控,用于生产线质量控制。
数字holography干涉系统:基于数字全息记录和重建原理,实现快速表面形貌测量和动态分析,适用于生物样本和软材料检测。
检测服务范围
1、指标检测:按国标、行标及其他规范方法检测
2、仪器共享:按仪器规范或用户提供的规范检测
3、主成分分析:对含量高的组分或你所规定的某种组分进行5~7天检测。
4,样品前处理:对产品进行预处理后,进行样品前处理,包括样品的采集与保存,样品的提取与分离,样品的鉴定以及样品的初步分析,通过逆向剖析确定原料化学名称及含量等共10个步骤;
5、深度分析:根据成分分析对采购的原料标准品做准确的定性定量检测,然后给出参考工艺及原料的推荐。最后对产品的质量控制及生产过程中出现问题及时解决。

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